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pvd真空蒸发镀膜

作者:admin 发布日期:2021-08-21 关注次数: 二维码分享
在真空条件下,利用气体放电使气体或蒸发物质离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时,把蒸发物或其反应物蒸断在 基片上。离子锻把辉光放电、等离子体技术与真空蒸发锻膜技术结合在一起。


01、原理

真空离子膜膜是真空蒸发和真空溅射锻膜结合的一种锻膜技术。离子锻的过程是在真空条件下, 利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化, 在工作气体离子或者被蒸发物质的离子轰击作用下,把蒸发物质或其反应物沉积在被锦基片表面的过程。

02、特点

( 1 ) 铺层附着性能好,膜层不易脱落

( 2 ) 绕锻性好,改善了表面的覆盖度

( 3 ) 断层质量好

( 4 ) 沉积速率高,成膜速度快

( 5 ) 膜膜所适用的基体材料与膜材范围广。
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