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pvd工艺

作者:admin 发布日期:2021-03-13 关注次数: 二维码分享
    PVD(Physical Vapor Deposition)是物理气相沉积:指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能。 PVD基本方法:真空蒸发、溅射、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。
PVD(Programmable Voltage Detector),即可编程电压监测器。应用于STM32ARM芯片中,作用是监视供电电压,在供电电压下降到给定的阀值以下时,产生一个中断,通知软件做紧急处理。当供电电压又恢复到给定的阀值以上时,也会产生一个中断,通知软件供电恢复。

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