膜厚不均匀：无论监控器的精度如何，它只能在真空室中的单个位置控制膜厚。一般来说，它是工件支架的中间位置。如果在该位置的膜厚度不是绝对均匀，然后远离中心位置的基板将无法获得均匀的厚度。尽管屏蔽罩可以消除长期的不均匀性，但薄膜的厚度仍会发生一些变化，这是由于蒸发源的不稳定性或薄膜材料的不同性能所致，因此几乎不可能消除，但是正确选择真空室和蒸发源的结构可以使这些影响最小化。

在过去的几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造商提供高性能，小尺寸，简单的光学镀膜系统。同时，用户不仅降低了性能要求，而且得到了改善，特别是在薄膜方面。就密度和吸水后光谱变化的最小化而言，系统的平均尺寸已减小，使用小型设备生产光学镀膜也已成为纯粹的技术问题。因此，选择现代光学镀膜系统的关键在于仔细考虑以下因素：即镀膜产品的预期性能，基材的尺寸和物理特性以及确保所需要的所有技术因素，高度一致性。