PVD涂层主要包括多弧电镀和磁控溅射电镀。该多弧电镀设备结构简单，易于操作。其离子蒸发源可由电焊机供电，引弧过程也类似于电焊。具体地说，在一定的工艺压力下，引弧针与蒸发离子源短暂接触，并断开与放电气体的连接。由于多弧电镀的原因主要是通过连续移动弧斑在蒸发源表面连续形成熔池，使金属蒸发沉积在衬底上得到薄膜层，与磁控溅射相比，多弧电镀具有靶材利用率高、金属离子离子化率高、薄膜与衬底结合力强的优点。

多弧涂层的颜色相对稳定，特别是在制备氮化钛涂层时，每批均很容易获得同样稳定的金黄色，这使得磁控溅射法难以实现。多弧电镀的缺点是，在使用传统DC电源作为低温涂层的情况下，当涂层厚度达到0.3m时，沉积速率接近反射率，使得成膜非常困难。此外，电影的表面开始变得模糊。多弧电镀的另一个缺点是，由于金属熔化后蒸发，沉积的颗粒较大，密度低，耐磨性比磁控溅射差。

PVD涂层可以提供更好的边缘保持力，防止氧化和腐蚀，在切割过程中保持清洁，并且不会与骨骼、组织或体液发生反应。因此，它越来越多地用于医疗器械，例如锋利的外科器械、针、钻头、干扰物、各种装置部件和牙科应用中的“磨损”部件。PVD涂层主要应用于制造硬质涂层的刀具。主要是锡和氮化铝基与铝，硅，铬和其他元素混合，以改变这些涂层的性能，如附着力，硬度，腐蚀和韧性。通常是为了提高某些性能而降低其他性能。TIALN中有细小的晶粒，这将提高硬度和耐腐蚀性。天星形成了新的结构。无定形夹杂物含有纳米微粒。硬度比TIALN高，但很脆。ALCRN具有良好的耐腐蚀性。