一、真空蒸发镀膜原理

三种主要PVD镀膜涂层的原理 金属表面处理 原理 -1

真空蒸发镀膜原理如图所示， 待镀膜材料和被镀基板置于真空室内，采用电子束加热、感应加热、电阻加热等方法使待镀材料蒸发或升华，并在基板表面凝聚成膜。真空度：等于或低于10-2 Pa，蒸发温度与元素有关。

二、PVD电弧离子镀原理

三种主要PVD镀膜涂层的原理 金属表面处理 原理 -2

PVD电弧离子镀原理如图所示，阴极和阳极分别接低压高电流直流电源的负极和正极。真空度为1.0e-1、～1.0e-2pa时， 当引弧电极和阴极靶表面接触与离开的瞬间引燃电弧，在阴极和阳极之间即可以维持电弧放电，其电流一般为几到几百安，电压一般为10～25V，这时阴极表面上的电流全部集中在一个或多个很小的部位，形成弧光斑点即微点蒸发源，使靶材蒸发形成高能原子或离子束流在基板上成膜。

三、PVD磁控溅射原理

三种主要PVD镀膜涂层的原理 金属表面处理 原理 -3

PVD磁控溅射原理如图所示，在高真空状态下导人工艺气体，并在电极的两端加上高电压后，产生火花放电。此时等离子体中的正离子在电场的作用下撞击靶材溅射出靶材的金属原子。工作压力一般为1.0e-1~1.0Pa，溅射电压300-600V平行于靶材表面的磁感应强度为0. 04-0.07T。

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