一.pvd真空蒸发镀膜

01、定义

pvd真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。

02、真空蒸发踱膜主要经历

1、采用各种能源方式转换成热能， 加热膜材使之蒸发或升华， 成为具有一定能星 ( 0霉 1/'"->J0 . 3 e V) 的气态粒子（原子、分子和原子团）；

2 、离开膜材表面，具 有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面；

3、到达基体表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜；

4、组 成 薄 膜 的 原子重组排列或产生化学键合；

03、原理及特点

原理：

热蒸发是在真空状况下，将所要蒸锻的材料利用电阻加热达到熔化温度，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种锻膜技术。

特点：

设备简单、操作容易

海膜纯度高，质量好， 厚度可控

速率快、效率高、可用掩膜 获得清晰图形

薄膜生长机理比较单纯

缺点：

不易获得结晶结构的薄膜

粘膜与基片附着力小

工艺正复性不够好

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