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PVD镀膜的基础概念及特性

作者:admin 发布日期:2020-12-31 关注次数: 二维码分享
PVD镀膜应用效果很好,使TiN涂层刀具很快得到普及性应用,利用铜坩埚加热融化被镀金属材料,利用钽灯丝给工件加热、除气,利用电子枪增强离化率,PVD镀膜不但可以得到厚度3~5μm的TiN涂层,而且其结合力、耐磨性均有不俗表现,甚至用打磨的方法都难以除去,或纯金属薄膜。

PVD镀膜中PVD是英文”PhysicalVaporDeposition”的缩写形式,意思是物理气相沉积。较为成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单,容易操作。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作,其引弧的过程也与电焊类似,具体地说,在一定工艺气压下,引弧针与蒸发离子源短暂接触,断开,使气体放电。

此外,PVD镀膜涂层颜色较为稳定,尤其是在做TiN涂层时,每一批次均容易得到相同稳定的金黄色,令磁控溅射法望尘莫及。多弧镀的不足之处是,在用传统的DC电源做低温涂层条件下,当涂层厚度达到0.3μm时,沉积率与反射率接近,成膜变得非常困难。而且,薄膜表面开始变朦。

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