PVD镀膜应用效果很好，使TiN涂层刀具很快得到普及性应用，利用铜坩埚加热融化被镀金属材料，利用钽灯丝给工件加热、除气，利用电子枪增强离化率，PVD镀膜不但可以得到厚度3~5μm的TiN涂层，而且其结合力、耐磨性均有不俗表现，甚至用打磨的方法都难以除去，或纯金属薄膜。

PVD镀膜中PVD是英文”PhysicalVaporDeposition”的缩写形式，意思是物理气相沉积。较为成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单，容易操作。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作，其引弧的过程也与电焊类似，具体地说，在一定工艺气压下，引弧针与蒸发离子源短暂接触，断开，使气体放电。

此外，PVD镀膜涂层颜色较为稳定，尤其是在做TiN涂层时，每一批次均容易得到相同稳定的金黄色，令磁控溅射法望尘莫及。多弧镀的不足之处是，在用传统的DC电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，薄膜表面开始变朦。