13584969897
溅射镀膜是指在真空条件下，利用获得功能的粒子轰击靶材料表面，使靶材表面原子获得足够的能量而逃逸的过程称为溅射。被溅射的靶材沉积到基材表面，就称作溅射镀膜。 溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。发展起来的规模性磁控溅射镀膜，沉积速率较高，工艺重复性好，便于自动化，已适当于进行大型建筑装饰镀膜，及工业材料的功能性镀膜，及TGN-JR型用多弧或磁控溅射在卷材的泡沫塑料及纤维织物表面镀镍Ni及银Ag。
汽车配件pvd镀膜…
了解详情
手机盖手机框pvd镀膜…
了解详情
穿戴类产品pvd真空镀膜…
了解详情
pvd镀膜医疗设备案例物理气相沉积（PVD）工艺，进入到医疗设备领域。广泛应用于医疗设备上沉积耐磨性薄膜，包括骨科植入体…
了解详情1358496989713584969897
邮箱：grace@enijorpvd.com
QQ：1020879989
当前位置：
手机站二维码
QQ咨询